• 仪器无忧网首页
  • 全国免费热线:400-966-1751

光谱仪使用之后如何有效清洗

浏览次数:2359
时间:2022-10-20 09:17:46

     ICP的基本结构包括:等离子体光源、进样系统、气体控制系统、光学系统、检测器和数据处理系统,每一部分又包括着不同的部件,如进样系统里的矩管、雾化器和雾室等。

  光谱仪在使用之后应该如何有效清洗配件结构?

  进样系统的清洗

  1、矩管的清洗

  (1)盐分沉积——将矩管倒扣,放入装有1:1硝酸的烧杯中浸泡24小时,以除去矩管上的积盐;

  (2)金属沉积——卸下石英矩管,将喷嘴进入热酸中(稀王水、硝酸或盐酸)中;

  (3)碳沉积——将矩管放入750℃马弗炉中,打开马弗炉几秒钟,让空气进入,再次将温度升至750℃。重复几次以清除碳沉积,待马弗炉冷却后,再将石英矩管取出。清洗后,使用去离子水冲洗,吹干。

  2、雾室和雾化器的清洗

  (1)玻璃混合雾化室的清洗

  如果雾化室壁上有挂水珠,这些大液滴排出时,会引起雾化室内压力变化从而导致样品雾化效率降低。因此,可以拆除雾室,浸泡于10%左右的稀硝酸中,保持低温微沸煮半小时以上,再用去离子水清洗,吹干。

  (2)雾化器堵塞的去除

  ①将进样管拆除,雾化器喷嘴朝上轻轻敲击以使颗粒物松散,并在重力作用下排出;

  ②在喷嘴处接入压缩空气(15~30psig)“反吹”喷嘴和环面,用手指堵住进样口和载气口,然后突然释放进样口以清除毛细管颗粒堵塞,或突然释放载气口以清除载气颗粒堵塞;

  ③在喷嘴处反向通入异丙醇,使颗粒物流出;

  ④气路中可能有PTEE碎屑时,将雾化器喷嘴浸到热水中,并在侧壁加压,热水使聚合物分散并从喷嘴排出;

  ⑤对于硅类颗粒堵塞,可使用3%~5%氢氟酸清洗,吸取清洗液5~10秒后,立即用大量清水冲洗,重复3~5次。注意:氢氟酸有毒性,使用时应戴好手套,做好防护措施,氢氟酸清洗的时间和浓度要准确控制,清洗后应彻底清除氢氟酸并使雾化器干燥,以防止氢氟酸对喷嘴处毛细管的腐蚀。

  ⑤切勿使用超声波清洗雾化器,因为毛细管中会有共振,碰到喷嘴的内壁会使毛细管口破裂,雾化器性能大大降低。

    3、循环冷却水机清洗

  冷却水的温度设置一般要比室温低5℃,每小时的温度变化不超过0.2℃,至少每半年进行一次清洗,清洗步骤如下:

  ①从仪器回流到冷水机的进水端处卸下管子;

  ②旋开排水口阀门,排净水箱中的水;

  ③在水箱中加入去离子水至水箱绿色和黄色刻线中间;

  ④旋上排水口阀门,接好进水端管子,打开电源,清洗系统。


上一篇:高效液相色谱流动相的选择原则

下一篇:液相色谱的柱温升高,该如何解决?